| 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究 |
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| 引用本文： | 郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓. 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究[J]. 原子能科学技术, 2005, 39(Z1): 88-93 |
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| 作者姓名： | 郑华 刘实 于洪波 朱跃进 王隆保 施力群 刘超卓 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院,金属研究所,辽宁,沈阳,110016
2. 复旦大学,现代物理研究所,上海,200433 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50131050,50471078) |
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| 摘 要： | 采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl 和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦-金属比)高达0.19的氦.引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2～5 nm的高压He泡内.热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致.与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 Ti膜 氦 热解吸 |
| 文章编号： | 1000-6931(2005)S0-0088-06 |
| 修稿时间： | 2005-01-05 |
Preparation of Ti Alloy Films Containing He by Magnetron Sputtering Method and Thermodesorption Research for He in the Films |
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| ZHENG Hua,LIU Shi,YU Hong-bo,ZHU Yue-Jin,WANG Long-bao,SHI Li-qun,LIU Chao-zhuo. Preparation of Ti Alloy Films Containing He by Magnetron Sputtering Method and Thermodesorption Research for He in the Films[J]. Atomic Energy Science and Technology, 2005, 39(Z1): 88-93 |
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| Authors: | ZHENG Hua LIU Shi YU Hong-bo ZHU Yue-Jin WANG Long-bao SHI Li-qun LIU Chao-zhuo |
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