| 热处理对透明导电CdIn_2O_4薄膜光电性质的影响 |
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| 引用本文： | 蒋生蕊,彭栋梁,李斌,王万录.热处理对透明导电CdIn_2O_4薄膜光电性质的影响[J].真空科学与技术学报,1993(2). |
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| 作者姓名： | 蒋生蕊 彭栋梁 李斌 王万录 |
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| 作者单位： | 兰州大学物理系，兰州大学物理系，兰州大学物理系，兰州大学物理系 兰州 730000，兰州 730000，兰州 730000，兰州 730000 |
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| 摘 要： | 在Ar、O_2混合气氛中射频反应性溅射Cd-In合金靶,制备了透明导电CdIn_2O_4(简称CIO)薄膜。研究了热处理对CIO薄膜的电学和光学性质的影响。实验结果表明,沉积后的热处理使CIO膜的电阻率均进一步减小,获得的薄膜最低电阻率为2.9×10~(-6)Ω·m,可见光区域最高透光率约为90%。在CIO膜的透射和反射谱中,观察到大的Burstein移动,并根据CIO膜的光学数据计算的热处理前后的光隙能值分别为2.46eV和2.63eV。
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| 关 键 词： | 热处理 光电特性 CdIn_2O_4薄膜 |
THE EFFECT OF HEAT TREATMENT ON THE EIECTRICAL AND OPTICAL PROPERTIES OF TRANSPARENT AND CONDUCTIVE CdIn_2O_4 FILMS |
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| Jiang Shengrui,Peng Dongliang,Li Bin,Wang Wanlu.THE EFFECT OF HEAT TREATMENT ON THE EIECTRICAL AND OPTICAL PROPERTIES OF TRANSPARENT AND CONDUCTIVE CdIn_2O_4 FILMS[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,1993(2). |
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| Authors: | Jiang Shengrui Peng Dongliang Li Bin Wang Wanlu |
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| Keywords: | Heat treatment Electrical and optical feature CdIn_2O_4 film |
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