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La^+,Mo^+注入TC4合金表面粗糙度变化研究
引用本文:卫中山,王珉,左敦稳,李亮.La^+,Mo^+注入TC4合金表面粗糙度变化研究[J].特种铸造及有色合金,2003(4):1-3.
作者姓名:卫中山  王珉  左敦稳  李亮
作者单位:[1]南京航空航天大学机电学院,南京210016 [2]南京航空航天大学210016
基金项目:江苏省自然科学基金项目(BK2001051)
摘    要:利用MEVVA离子注入技术对TC4合金进行了表面处理,测量了TC4合金经不同剂量的La^ 和Mo^ 注入后表面粗糙度的变化。结果表明,离子注入使表面粗糙度的高度特性参数值普遍下降,随着注入剂量增加,各参数值下降更明显,Mo^ 注入效果要略优于La^ 的效果。表面形貌得到优化。分析了离子注入对表面粗糙度的影响规律,并利用溅射理论给出了物理解释。

关 键 词:钛合金  金属离子注入  表面粗糙度
文章编号:1001-2449(2003)04-0001-03
修稿时间:2003年1月28日

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Abstract:
Keywords:
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