| 生长温度对纳米AlN薄膜的表面形貌和结晶特性的影响 |
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| 引用本文： | 郑晓娟,王娟,李善锋,张庆瑜. 生长温度对纳米AlN薄膜的表面形貌和结晶特性的影响[J]. 功能材料, 2005, 36(1): 93-96 |
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| 作者姓名： | 郑晓娟 王娟 李善锋 张庆瑜 |
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| 作者单位： | 大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(10075009) |
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| 摘 要： | 采用射频(RF)反应磁控溅射方法制备了具有原子级平滑表面的纳米AlN薄膜。利用傅立叶红外光谱(FTIR)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)、卢瑟福背散射(RBS)等分析方法对不同实验条件下合成的AlN薄膜进行了表征，研究了不同沉积温度(室温约550℃)下的AlN薄膜的表面形貌特征和结晶特性，探讨了AlN薄膜表面形貌的变化规律及纳米薄膜的形成机制。分析结果显示：不同沉积温度下合成的AlN薄膜均具有原子量级平滑的表面，薄膜表面粗糙度(RMS)为0．2～0．4nm，且不随沉积温度的增加而发生明显变化；薄膜的晶粒尺度为20～30nm，薄膜的折射率随沉积温度的增加而增加。
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| 关 键 词： | 氮化铝 磁控溅射 表面形貌 结晶特性 |
| 文章编号： | 1001-9731(2005)01-093-04 |
| 修稿时间： | 2004-03-03 |
Effects of temperature on the morphology and structure of AlN films deposited by reactive magnetron sputtering |
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| ZHENG Xiao-juan,WANG Juan,LI Shan-feng,ZHANG Qing-yu. Effects of temperature on the morphology and structure of AlN films deposited by reactive magnetron sputtering[J]. Journal of Functional Materials, 2005, 36(1): 93-96 |
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| Authors: | ZHENG Xiao-juan WANG Juan LI Shan-feng ZHANG Qing-yu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | AlN radio-frequency magnetron sputtering surface morphology microstructure |
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