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用磁控溅射和退火方法制备AlSb多晶薄膜
引用本文:陈卫东,冯良桓,雷智,张静全,武莉莉,蔡伟,蔡亚平,姚菲菲,李卫,黎兵,郑家贵.用磁控溅射和退火方法制备AlSb多晶薄膜[J].半导体学报,2006,27(3):541-544.
作者姓名:陈卫东  冯良桓  雷智  张静全  武莉莉  蔡伟  蔡亚平  姚菲菲  李卫  黎兵  郑家贵
作者单位:四川大学材料科学与工程学院,成都 610064;四川大学材料科学与工程学院,成都 610065;四川大学材料科学与工程学院,成都 610066;四川大学材料科学与工程学院,成都 610067;四川大学材料科学与工程学院,成都 610068;四川大学材料科学与工程学院,成都 610069;四川大学材料科学与工程学院,成都 610070;四川大学材料科学与工程学院,成都 610071;四川大学材料科学与工程学院,成都 610072;四川大学材料科学与工程学院,成都 610073;四川大学材料科学与工程学院,成都 610074
摘    要:采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备Al/Sb预制多层薄膜,然后将Al/Sb预制多层薄膜在退火炉中退火得到AlSb多晶薄膜.用X射线衍射(XRD)法测薄膜结构;用扫描电镜(SEM)测薄膜Al/Sb成分比,结果表明AlSb多晶薄膜具有单一的晶相、均匀的结构,以及粒径大约20nm的晶粒.根据电导率(lnσ)与温度(T)的关系得到电导激活能为0.21和0.321eV,为制备出适用于太阳电池的AlSb多晶薄膜奠定了一定的技术基础.

关 键 词:AlSb多晶薄膜  磁控溅射  退火  太阳电池  磁控溅射法  退火炉  法制  多晶薄膜  Annealing  Magnetron  Sputtering  Films  Polycrystalline  技术基础  太阳电池  激活能为  电导率  关系  温度  晶粒  粒径  薄膜结构  均匀  晶相  结果
文章编号:0253-4177(2006)03-0541-04
收稿时间:07 22 2005 12:00AM
修稿时间:11 26 2005 12:00AM

Growth of AlSb Polycrystalline Films by Magnetron Sputtering and Annealing
Chen Weidong,Feng Lianghuan,Lei Zhi,Zhang Jingquan,Wu Lili,Cai Wei,Cai Yaping,Yao Feifei,Li Wei,Li Bing and Zheng Jiagui.Growth of AlSb Polycrystalline Films by Magnetron Sputtering and Annealing[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(3):541-544.
Authors:Chen Weidong  Feng Lianghuan  Lei Zhi  Zhang Jingquan  Wu Lili  Cai Wei  Cai Yaping  Yao Feifei  Li Wei  Li Bing and Zheng Jiagui
Affiliation:College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610064,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610065,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610066,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610067,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610068,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610069,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610070,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610071,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610072,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610073,China;College of Material Science and Engineering,Sichuan University,Chengdu 610074,China
Abstract:
Keywords:AlSb polycrystalline thin films  magnetron sputtering  annealing  solar cell
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