| 全自动半导体RCA清洗机 |
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| 引用本文： | 段成龙,祝福生.全自动半导体RCA清洗机[J].清洗世界,2013,29(1):42-46. |
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| 作者姓名： | 段成龙 祝福生 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京101601 |
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| 摘 要： | RCA清洗工艺是一种在半导体制造过程中被广泛应用的工艺,是去除硅片表面各类玷污的有效方法。本文介绍了RCA清洗工艺的原理、过程以及应用,并详细介绍了全自动半导体RCA清洗机的组成、各单元结构及功能。
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| 关 键 词： | RCA清洗工艺 化学清洗 清洗设备 全自动设备 |
Wet etch & its uniformity technical discuss |
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| DUAN Chenglong
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ZHU Fusheng.Wet etch & its uniformity technical discuss[J].Cleaning World,2013,29(1):42-46. |
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| Authors: | DUAN Chenglong ZHU Fusheng |
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| Affiliation: | (The 45th Research Instiute of CETC,Beijing 101601,China) |
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