| 氮化铜薄膜的结构与组成分析 |
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| 引用本文： | 左安友,袁作彬,杨建平,李兴鳌.氮化铜薄膜的结构与组成分析[J].湖北民族学院学报(哲学社会科学版),2006,24(2):173-175. |
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| 作者姓名： | 左安友 袁作彬 杨建平 李兴鳌 |
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| 作者单位： | 湖北民族学院理学院 湖北恩施445000 |
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| 摘 要： | 采用反应直流磁控溅射的方法在室温下,在玻璃基底上成功制备了多晶氮化铜(Cu3N)薄膜.XRD显示薄膜是择优生长取向的,在低氮气分压时薄膜择优111]晶向生长,在高氮气分压条件下薄膜的择优生长取向为100]、111];XPS分析表明,在低氮气分压时,薄膜主要由Cu3N和Cu组成;在高氮气分压时,薄膜主要由Cu3N组成,而Cu的含量很少.
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| 关 键 词： | 氮化铜薄膜 直流磁控溅射 X射线衍射 X射线光电子能谱 |
| 文章编号： | 1008-8423(2006)02-0173-03 |
| 修稿时间： | 2005年2月27日 |
Analysis of the Structures and Compounds of Copper Nitride Films |
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| ZUO An-you,YUAN Zuo-bin,YANG Jian-ping,LI Xin-gao.Analysis of the Structures and Compounds of Copper Nitride Films[J].Journal of Hubei Institute for Nationalities(Natural Sciences),2006,24(2):173-175. |
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| Authors: | ZUO An-you YUAN Zuo-bin YANG Jian-ping LI Xin-gao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Cu_3N thin film DC magnetron sputtering X-ray diffraction X-ray photoelectron spectroscopy |
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