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| 常压化学气相沉积法制备Ti5Si3薄膜及其镀膜玻璃 | |
| 引用本文： | 黄燕飞,任招娣,沈美,杜军,魏德法,马宁,杜丕一.常压化学气相沉积法制备Ti5Si3薄膜及其镀膜玻璃[J].硅酸盐学报,2009,37(10). |
| 作者姓名： | 黄燕飞 任招娣 沈美 杜军 魏德法 马宁 杜丕一 |
| 作者单位： | 1. 浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027;杭州钢铁集团公司,杭州,310022 2. 浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室,杭州,310027 3. 威海蓝星玻璃股份有限公司,山东,威海,264205 |
| 摘 要： | 以制各兼具阳光控制和低辐射功能的镀膜玻璃为目的,以硅烷与四氯化钛为反应前驱体,氮气为保护气体和稀释气体,通过常压化学气相沉积法模拟玻璃浮法在线镀膜工艺,在玻璃基板上成功制备了Ti5Si3薄膜,用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、四探针测阻仪和分光光度计对薄膜的相结构、形貌、电学、光学性能进行了表征.结果表明:薄膜为六方结构的Ti5Si3晶相,晶相含量较高,晶粒尺寸为23nm,薄膜中的晶粒以200nm左右的多晶颗粒团聚体形式存在.薄膜电阻率为122μΩ·cm,与Ti5Si3晶体的本征电阻率相当.这种单层镀膜玻璃的红外反射率可高达92.1%,可见光区的透过率为25%,兼具阳光控制和低辐射功能. |
| 关 键 词： | 常压化学气相沉积法 硅化钛 红外反射 透射率 电阻率 |
A Ti5Si3 THIN FILM AND ITS COATING GLASS DEPOSITED BY ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD |
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| HUANG Yanfei,REN Zhaodi,SHEN Mei,DUJun,WEI Defa,MA Ning,DU Piyi.A Ti5Si3 THIN FILM AND ITS COATING GLASS DEPOSITED BY ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2009,37(10). | |
| Authors: | HUANG Yanfei REN Zhaodi SHEN Mei DUJun WEI Defa MA Ning DU Piyi |
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| Keywords: | |
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