| 真空阴极多弧离子镀不同厚度四面体非晶碳薄膜的结构和性能 |
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| 引用本文： | 李玉婷,代明江,李洪,林松盛,石倩,韦春贝,苏一凡,郭朝乾.真空阴极多弧离子镀不同厚度四面体非晶碳薄膜的结构和性能[J].电镀与涂饰,2018(16). |
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| 作者姓名： | 李玉婷 代明江 李洪 林松盛 石倩 韦春贝 苏一凡 郭朝乾 |
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| 作者单位： | 广东工业大学材料与能源学院;广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室 |
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| 摘 要： | 以真空阴极多弧离子镀技术在P(100)型单晶抛光硅衬底和YG6硬质合金上制备了四面体非晶碳(ta-C)薄膜。用扫描电镜(SEM)测量薄膜厚度,并观察其表面及断面形貌;用X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的相组成;用拉曼光谱标定薄膜中的sp3键和sp2键;用轮廓仪测量薄膜的表面粗糙度;用划痕法和压痕法测试了膜/基结合强度。在0.5~1.5μm的厚度范围内,随着ta-C薄膜厚度增加,薄膜的sp3键含量逐渐降低,表面碳颗粒数量及尺寸逐渐增加,与YG6基体的结合强度不断降低。0.5μm厚的ta-C薄膜具有最小的表面粗糙度(0.17μm),最高的结合强度(剥离时的临界载荷为61 N,压痕等级为HF2),表现出最优的综合力学性能。
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