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退火对氧化锌薄膜结晶性能的影响
引用本文:杜晓松,曾雄,杨邦朝,王涛,谢光忠,蒋亚东. 退火对氧化锌薄膜结晶性能的影响[J]. 功能材料, 2008, 39(5): 797-798
作者姓名:杜晓松  曾雄  杨邦朝  王涛  谢光忠  蒋亚东
作者单位:电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054;电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划) , 国家自然科学基金
摘    要:采用射频磁控溅射法在(001)硅片上制备了ZnO薄膜,利用X射线衍射对薄膜的制备工艺进行了研究,结果表明,基板温度、溅射功率、氩氧比、总气压在一个较大的范围内变化时都可实现薄膜的c轴择优取向生长.随后对薄膜进行了空气退火并利用摇摆曲线表征薄膜的结晶质量,摇摆曲线的半高宽随退火温度的提高而减小,700℃退火后FWHM为2.5°.

关 键 词:ZnO薄膜  退火  摇摆曲线  X射线衍射
文章编号:1001-9731(2008)05-0797-02
修稿时间:2007-10-19

The effect of annealing on the crystallinity of ZnO films
DU Xiao-song,ZENG Xiong,YANG Bang-chao,WANG Tao,XIE Guang-zhong,JIANG Ya-dong. The effect of annealing on the crystallinity of ZnO films[J]. Journal of Functional Materials, 2008, 39(5): 797-798
Authors:DU Xiao-song  ZENG Xiong  YANG Bang-chao  WANG Tao  XIE Guang-zhong  JIANG Ya-dong
Abstract:
Keywords:
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