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4H-SiC浮动结JBS器件的设计方法
引用本文:孙腾飞,汤晓燕,谢思亮,袁 昊,张玉明. 4H-SiC浮动结JBS器件的设计方法[J]. 太赫兹科学与电子信息学报, 2019, 17(4): 721-725
作者姓名:孙腾飞  汤晓燕  谢思亮  袁 昊  张玉明
作者单位:Key Laboratory of Wide Band-Gap Semiconductor Materials and Devices,School of Microelectronics,Xidian University,Xi’an Shaanxi 710071,China,Key Laboratory of Wide Band-Gap Semiconductor Materials and Devices,School of Microelectronics,Xidian University,Xi’an Shaanxi 710071,China,Key Laboratory of Wide Band-Gap Semiconductor Materials and Devices,School of Microelectronics,Xidian University,Xi’an Shaanxi 710071,China,Key Laboratory of Wide Band-Gap Semiconductor Materials and Devices,School of Microelectronics,Xidian University,Xi’an Shaanxi 710071,China and Key Laboratory of Wide Band-Gap Semiconductor Materials and Devices,School of Microelectronics,Xidian University,Xi’an Shaanxi 710071,China
基金项目:科学挑战专题基金资助项目(TZ2018003)
摘    要:研究了4H-SiC浮动结(FJ)结势垒肖特基(JBS)二极管的设计方法。提出在上外延层厚度一定的情况下得到外延层最佳掺杂浓度,然后以器件的功率优值(BFOM值)为依据确定出最佳下外延层厚度,进而设计出浮动结和表面结的最佳结构参数。否定了文献中认为浮动结位于器件中部为最佳设计的结论。仿真结果表明浮动结和表面结线宽比不仅影响器件导通特性,还会影响反向特性。浮动结线宽比在一定范围内会略微影响器件击穿电压,而表面结线宽比主要影响器件的反向泄漏电流。

关 键 词:4H-SiC;浮动结-结势垒肖特基二极管;外延结构;功率优值
收稿时间:2018-08-21
修稿时间:2018-11-14

Design of 4H-SiC Floating Junction-Junction Barrier Schottky device
SUN Tengfei,TANG Xiaoyan,XIE Siliang,YUAN Hao and ZHANG Yuming. Design of 4H-SiC Floating Junction-Junction Barrier Schottky device[J]. Journal of Terahertz Science and Electronic Information Technology, 2019, 17(4): 721-725
Authors:SUN Tengfei  TANG Xiaoyan  XIE Siliang  YUAN Hao  ZHANG Yuming
Abstract:
Keywords:
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