| PMMA在LIGA技术中的应用 |
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| 引用本文： | 陈永明,伊福廷,陈传福,彭良强,习复.PMMA在LIGA技术中的应用[J].微细加工技术,2001(4):36-38,43. |
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| 作者姓名： | 陈永明 伊福廷 陈传福 彭良强 习复 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院化学研究所,
2. 中国科学院高能物理研究所, |
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| 基金项目： | 国家基金委资助项目(59473011) |
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| 摘 要： | 合成了用于LIGA微细加工技术的聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀剂，采用同步辐射装置X射线深度曝光，可得到深宽比45－90，深度大于450微米，细线宽5－10微米的良好光刻图形。
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| 关 键 词： | LIGA技术 集成电路 微细加工技术 光刻 |
| 文章编号： | 1003-8213(2001)04-0036-03 |
Application of PMMA Resist in LIGA Technique |
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| CHEN Yong ming ,YI Fu ting ,CHEN Chuan fu ,PENG Liang qiang ,XI Fu.Application of PMMA Resist in LIGA Technique[J].Microfabrication Technology,2001(4):36-38,43. |
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| Authors: | CHEN Yong ming YI Fu ting CHEN Chuan fu PENG Liang qiang XI Fu |
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| Affiliation: | CHEN Yong ming 1,YI Fu ting 2,CHEN Chuan fu 1,PENG Liang qiang 2,XI Fu 1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | LIGA technique resist PMMA deep exposure |
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