首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

几种高反膜设计新方法
引用本文:干蜀毅,刘正坤,徐向东,洪义麟,刘颖,周洪军,霍同林,付绍军. 几种高反膜设计新方法[J]. 真空科学与技术学报, 2008, 28(6)
作者姓名:干蜀毅  刘正坤  徐向东  洪义麟  刘颖  周洪军  霍同林  付绍军
作者单位:1. 中国科技大学国家同步辐射实验室,合肥,230029;合肥工业大学真空教研室,合肥,230009
2. 中国科技大学国家同步辐射实验室,合肥,230029
摘    要:现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高,具体表现在两个方面:一是要求在现有基础上进一步提高反射率,拓宽高反膜带宽,二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外~X射线。本文总结了近年来出现的一些思路独特的增反膜设计新方法,包括Needle设计法、Staggered broad-band reflecting multilayers法、Sub-quarterwave multilayers法、Layered synthetic mi-crostructure/quasi-periodic multilayers法、Layer by layer法、带阻挡层的Layer by layer法及Wide range multilayer设计法。给出了这些设计方法的思路,以真空紫外~X射线反射膜为侧重点。对增反膜设计、制作过程中尚存的一些重大问题也进行了阐述。

关 键 词:反射膜  高反膜  膜系设计  真空紫外  X射线

Review of Highly Reflecting Layer Fabrication Technologies
Gan Shuyi,Liu Zhengkun,Xu Xiangdong,Hong Yilin,Liu Ying,Zhou Hongjun,Huo Tonglin,Fu Shaojun. Review of Highly Reflecting Layer Fabrication Technologies[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2008, 28(6)
Authors:Gan Shuyi  Liu Zhengkun  Xu Xiangdong  Hong Yilin  Liu Ying  Zhou Hongjun  Huo Tonglin  Fu Shaojun
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号