| 两面顶低温超高压烧结纳米碳化硅的研究 |
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| 引用本文： | 谢茂林,罗德礼,鲜晓斌,冷邦义,范辉.两面顶低温超高压烧结纳米碳化硅的研究[J].功能材料,2007,38(A10):3790-3792. |
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| 作者姓名： | 谢茂林 罗德礼 鲜晓斌 冷邦义 范辉 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院,表面物理与化学国家重点实验室,四川绵阳621907 |
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| 基金项目： | 致谢：感谢蒋春丽、罗立珠、黄火根、蓝林钢等为本研究的分析测试工作提供的帮助;感谢谢东华、鲁伟员、王鑫等对试验方案设计及实施提供的帮助;感谢其他给予我帮助的同事领导. |
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| 摘 要： | 采用两面顶低温超高压（LT-HP）技术在压力4．5GPa、温度（1250±50）℃、烧结时间20min的条件下烧结制备了纳米碳化硅（SiC）陶瓷，研究了烧结体的物相组成、化学成分、微观结构、显微硬度、纳米压痕力学性能等。结果表明，不添加烧结助剂且在较低温度下获得的SiC烧结体的相对密度高达98．4％，其显微硬度达到HV3520；纳米压痕测试硬度高达H31．74GPa、弹性模量E313GPa；烧结体的晶粒尺寸约为89nm，结构致密，无气孔。
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| 关 键 词： | 两面顶 超高压 烧结 碳化硅 |
| 文章编号： | 1001-9731（2007）增刊-3790-03 |
| 修稿时间： | 2007-06-21 |
Twain face anvils sinter SiC at low temperature and ultrahigh-pressure |
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| XIE Mao-lin, LU De-li, XIAN Xiao-bin, LENG Bang-yi, FAN Hui.Twain face anvils sinter SiC at low temperature and ultrahigh-pressure[J].Journal of Functional Materials,2007,38(A10):3790-3792. |
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| Authors: | XIE Mao-lin LU De-li XIAN Xiao-bin LENG Bang-yi FAN Hui |
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| Affiliation: | National Key Laboratory for Surface Physics and Chemistry, Chinese Academy of Engineering Physics, Mianyang 621907, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | twain face anivils ultrahigh-pressure sinter silicon carbide |
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