AM混合相Si:P:H薄膜的制备与分析 |
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引用本文: | 刘明.AM混合相Si:P:H薄膜的制备与分析[J].烟台师范学院学报(自然科学版),1989,5(1):38-41. |
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作者姓名: | 刘明 |
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摘 要: | 本文介绍了SiH4/PH3混合气体的高频辉光放电法,在硅、玻璃衬底上淀积的掺P氢化非晶硅膜的结构和特性,并对样品作了高温退火试验,应用x射线衍射和红外吸收,对淀积膜的结构性质作了探讨和分析。结果表明,所淀积的是一种微晶-非晶混合相掺P氢化非晶硅膜(AM-Si:P:H)。这种膜具有良好的光电性能,较高的掺杂效率。经退火后,光电性能有所改善,是P-i-n太阳能电池所希望n^ 材料。
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关 键 词: | 高频辉光放电法 AM混合相 退火 掺杂效率 掺磷氢化非晶硅膜 |
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