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基于AFM的纳米刻划系统
引用本文:闫永达,胡振江,费维栋,于海涛,孙涛,董申. 基于AFM的纳米刻划系统[J]. 纳米技术与精密工程, 2008, 6(5)
作者姓名:闫永达  胡振江  费维栋  于海涛  孙涛  董申
作者单位:1. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨,150001;哈尔滨工业大学精密工程研究所,哈尔滨,150001
2. 哈尔滨工业大学精密工程研究所,哈尔滨,150001
3. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨,150001
基金项目:黑龙江省青年专项基金,黑龙江省博士后科研启动基金 
摘    要:为了解决商业原子力显微镜(AFM)系统刻划软件本身在刻划实验时不能够实时提供水平摩擦力信号以及不能够在刻划过程中改变载荷的缺点,开发了一套基于单片机的辅助控制模块.该模块可以实现高精度的数据输入和输出,并通过AFM系统提供的信号接口模块及高精度工作台可以实时地测量水平摩擦力信号和在刻划过程中改变垂直栽荷.采用两种不同样品表面——机械加工产生的二氧化硅表面和重氮盐自组装膜表面进行刻划实验.变载荷和恒定载荷的刻划实验结果表明:该系统可以实现水平摩擦力的实时检测及垂直载荷的变化施加.实验数据能够反映不同表面间的摩擦特性的差别,并且与前人分析结果一致多列刻划实验表明采用该刻划系统,可以实现在较大范围内的阵列刻划.

关 键 词:原子力显微镜  纳米刻划  摩擦力  单片机

AFM-Based Nanoscratch System
YAN Yong-da,HU Zhen-jiang,FEI Wei-dong,YU Hai-tao,SUN Tao,DONG Shen. AFM-Based Nanoscratch System[J]. Nanotechnology and Precision Engineering, 2008, 6(5)
Authors:YAN Yong-da  HU Zhen-jiang  FEI Wei-dong  YU Hai-tao  SUN Tao  DONG Shen
Abstract:
Keywords:
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