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| 平面光学研磨的轨迹方程与运动方程之探讨 | |
| 作者姓名： | 李懋和 |
| 摘 要： | §1引言在光学零件加工的精磨和抛光等工序中,通过研磨模与被加工零件盘的相对研磨使工件进行修整和抛光,以达到所要求的精度与光洁度。为了提高加工的质量与效率,必须了解并掌握研磨模与被加工零件盘在研磨加工中相对运动的规律。而表达这个规律的较好的方式,自然希望能用解析表达式给出相对运动的轨迹方程与运动方程。更何况相对 |
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