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| 微透镜列阵的离子束刻蚀及衍射效率测量 | |
| 引用本文： | 赵光兴,杨国光,陈洪璆,侯西云. 微透镜列阵的离子束刻蚀及衍射效率测量[J]. 中国激光, 1997, 24(1): 35-40 |
| 作者姓名： | 赵光兴 杨国光 陈洪璆 侯西云 |
| 作者单位： | 赵光兴:浙江大学光科系,杭州 310027 杨国光:浙江大学光科系,杭州 310027 陈洪璆:浙江大学光科系,杭州 310027 侯西云:浙江大学光科系,杭州 310027 |
| 摘 要： | 采用Kaufman离子刻蚀微透镜列阵并采用实时检测系统对刻蚀深度进行了控制.提出了测量微透镜列阵衍射效率的一种方法,对测量误差进行了讨论. |
| 关 键 词： | 微透镜列阵 离子束刻蚀 衍射效率 |
| 收稿时间： | 1996-01-22 |
Ion Beam Etching of Binary Optics Microlens Arrays and the Test of Diffraction Efficiency |
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| Abstract: | A binary optics microlens array (BM) was fabricated by using ion beam teching. The real-time test of etching depth in vacuum enviroment was performed. A noval method of measuring the BM diffraction efficiency was presented. |
| Keywords: | microlens array ion beam etching diffraction efficiency |
