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氮-铟共掺杂ZnO薄膜的制备及表征
引用本文:边继明,李效民,张灿云,赵俊亮,于伟东,高向东.氮-铟共掺杂ZnO薄膜的制备及表征[J].液晶与显示,2005,20(3):200-204.
作者姓名:边继明  李效民  张灿云  赵俊亮  于伟东  高向东
作者单位:中国科学院,上海硅酸盐研究所,高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050
基金项目:国家“973”基金资助项目(No.2002CB613306),上海市科技发展基金资助项目(No.022261035)
摘    要:以醋酸锌水溶液为前驱体,分别以醋酸铵和硝酸铟为氮(N)源和铟(In)源,采用超声喷雾热解法在石英玻璃衬底上沉积了氮铟(NIn)共掺杂ZnO薄膜。采用X射线衍射、场发射扫描电镜、霍尔效应、塞贝克效应、光致发光谱等分析方法,研究了NIn共掺杂对所得ZnO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响规律。结果表明:通过氮铟共掺杂,ZnO薄膜的电学和光学性能发生明显改变。优化工艺条件下,所得ZnO基薄膜结构均匀致密,电阻率为6.75×103Ω·cm,并且在室温光致发光谱中检测到很强的近带边紫外发光峰,表明薄膜具有较理想的化学计量比和较高的光学质量。

关 键 词:ZnO薄膜  超声喷雾热分解  N—In共掺杂  光致发光
文章编号:1007-2780(2005)03-0200-05
修稿时间:2004年10月26

Growth and Characterization of N-In Codoped ZnO Films Deposited on Glass Substrates
BIAN Ji-ming,LI Xiao-min,ZHANG Can-yun,ZHAO Jun-liang,YU Wei-dong,GAO Xiang-dong.Growth and Characterization of N-In Codoped ZnO Films Deposited on Glass Substrates[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2005,20(3):200-204.
Authors:BIAN Ji-ming  LI Xiao-min  ZHANG Can-yun  ZHAO Jun-liang  YU Wei-dong  GAO Xiang-dong
Abstract:
Keywords:ZnO films  ultrasonic spray pyrolysis  N-In codoping  photoluminescence
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