化学气相沉积(CVD)炭/碳复合材料(C/C)研究现状 |
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引用本文: | 程永宏,罗瑞盈,王天民. 化学气相沉积(CVD)炭/碳复合材料(C/C)研究现状[J]. 炭素技术, 2002, 0(5): 26-32 |
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作者姓名: | 程永宏 罗瑞盈 王天民 |
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作者单位: | 北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083 |
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摘 要: | 主要介绍了炭/炭复合材料(C/C)的化学气相沉积(CVD0制备方法及其影响因素,以及热解炭的组织与沉积机理。概括了VCD的基本方法,如等温法、压差法、热梯度法等。分析了温度、气流速率、气体浓度、预制体及孔隙的形状大小状况等对CVD过程的影响。列举了热解炭的组织,包括光滑层、粗糙层、各向同性体碳以及它们的变体,并对其生长特征及性能进行了较详细的描述。综述了热解炭的沉积机理,典型的有分子沉积、固态沉积、液滴沉积机理等。
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关 键 词: | 炭/炭复合材料 化学气相沉积 热解炭 沉积机理 |
文章编号: | 1001-3741(2002)05-0026-07 |
修稿时间: | 2002-07-02 |
SUMMARY OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (CVD) IN PREPARATION OF CARBON/CARBON COMPOSITES |
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Abstract: | |
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Keywords: | Carbon/carbon chemical vapor deposition pyrolytic carbon deposition mechanism |
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