| Mg:Er:LiNbO3晶体波导基片抗光损伤的研究 |
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| 引用本文： | 夏宗仁 徐朝鹏 郑威 徐玉恒. Mg:Er:LiNbO3晶体波导基片抗光损伤的研究[J]. 功能材料, 2004, 35(Z1): 468-470 |
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| 作者姓名： | 夏宗仁 徐朝鹏 郑威 徐玉恒 |
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| 作者单位： | 夏宗仁（CETC中电科技,德清华莹电子有限公司,浙江,德清,313216）;徐朝鹏（哈尔滨工业大学,电子科学与技术系,黑龙江,哈尔滨,150001）;郑威（哈尔滨工业大学,应用化学系,黑龙江,哈尔滨,150001）;徐玉恒（哈尔滨工业大学,应用化学系,黑龙江,哈尔滨,150001） |
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| 基金项目： | 国家973计划资助项目(G19990330);国家863计划资助项目(2001AA30304) |
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| 摘 要： | 以Czochralski技术生长Mg(2mol%)Er(1mol%)LN,Mg(4mol%)Er(1mol%)LN,Mg(6mol%)Er(1mol%)LN,Mg(8mol%)Er(1mol%)LN和Er(1mol%)LN晶体.测试了MgErLiNbO3晶体的红外光谱,Mg(2mol%)ErLN,Mg(4mol%)ErLNOH-吸收峰在3486cm-1附近,Mg(6mol%)ErLN和Mg(8mol%)ErLN晶体OH-吸收峰移动到3535cm-1附近,对MgErLN晶体OH-吸收峰移动机理进行研究.采用m线法测试MgErLN晶体光损伤阈值.Mg(6mol%)Er(1mol%)LN和Mg(8mol%)ErLN晶体光损伤阈值比ErLN晶体提高两个数量级以上.Mg(2mol%)ErLN和Mg(4mol%)ErLN晶体比Er(1mol%)LN晶体提高一个数量级.
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| 关 键 词： | MgErLN晶体 波导基片 光损伤 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-0468-03 |
| 修稿时间： | 2004-05-05 |
Study on photodamageresistance of Mg:Er:LiNbO3 waveguide substrate |
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| XIA Zong-ren. Study on photodamageresistance of Mg:Er:LiNbO3 waveguide substrate[J]. Journal of Functional Materials, 2004, 35(Z1): 468-470 |
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| Authors: | XIA Zong-ren |
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