自对准结构α-Si:HTFT特性的分析和研究 |
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引用本文: | 张少强,徐重阳,邹雪城,周雪梅,赵伯芳,袁奇燕,符晖,王长安.自对准结构α-Si:HTFT特性的分析和研究[J].微电子学,1995(5). |
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作者姓名: | 张少强 徐重阳 邹雪城 周雪梅 赵伯芳 袁奇燕 符晖 王长安 |
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作者单位: | 华中理工大学固体电子学系 |
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摘 要: | 本文描述了用自对准工艺制各自对准结构的α-Si:HTFT。从理论上分析了有源层α-Si:H的厚度对α-Si:HTFT特性的影响,据此提出一种新型的双有源层结构的α-SiTFT。它可以有效地提高自对准α-Si:HTFT的开态I_(ON),其通断电流比I_(ON)/I_(OFF)>10 ̄5。
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关 键 词: | 非晶硅,薄膜晶体管,液晶显示器 |
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