等离子化学气相沉积硬膜技术研究 |
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作者姓名: | 石玉龙 彭红瑞 |
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摘 要: | 用等离子体化学气相沉积(PCVD)技术制备了TiN、TiC、Ti(CN)和(TiSi)N膜及其组合的多层膜。PCVD具有很好的覆盖性,PCVD-TiN具有很好的耐磨、蚀性,膜与基体结合良好,因而用PCVD法在高速钢刀具、模具及轴承上沉积TiN可大大提高其使用寿命。PCVD-TiN和Ti(CN)膜无明显柱状晶,其显微硬度高于TiN亦可用于高速钢刀具、模具上提高其使用寿命。PCVD-(TiSi)N,晶
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关 键 词: | 等离子体 化学气相沉积 镀膜 |
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