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InAs/GaAs多层堆垛量子点激光器的激射特性
引用本文:钱家骏,叶小玲,陈涌海,徐波,韩勤,王占国.InAs/GaAs多层堆垛量子点激光器的激射特性[J].半导体学报,2005,26(Z1).
作者姓名:钱家骏  叶小玲  陈涌海  徐波  韩勤  王占国
作者单位:1. 中国科学院半导体研究所半导体材料重点实验室,北京,100083
2. 中国科学院半导体研究所光电子工艺中心,北京,100083
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划),国家自然科学基金,中国科学院资助项目
摘    要:利用固态源分子束外延技术,按S-K模式生长出五层堆垛InAs/GaAs量子点(QD)微结构材料.用这种QD材料制成的激光器,内光学损耗为2.1cm-1,透明电流密度为15士10 A/cm2.对于条宽100μm,腔长2.4mm的激光器(腔面未经镀膜处理),室温下基态激射的波长为1.08μm,阈值电流密度为144A/cm2,连续波光功率输出达2.67W(双面),外量子效率为63%,特征温度为320K.研究了QD激光器翟激射特性,并对结果作了讨论.

关 键 词:应变自组装量子点  InAs/GaAs多层堆垛量子点  量子点激光器  MBE生长

Lasing Characteristics of InAs/GaAs Quantum-Dot Lasers with Multistacked Dot Layer
Qian Jiajun,Ye Xiaoling,Chen Yonghai,Xu Bo,Han Qin,Wang Zhanguo.Lasing Characteristics of InAs/GaAs Quantum-Dot Lasers with Multistacked Dot Layer[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(Z1).
Authors:Qian Jiajun  Ye Xiaoling  Chen Yonghai  Xu Bo  Han Qin  Wang Zhanguo
Abstract:
Keywords:
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