| 兆声清洗法和离心喷射清洗法的比较 |
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| 引用本文： | 凤坤,史迅达,李刚,许峰,刘培东.兆声清洗法和离心喷射清洗法的比较[J].半导体学报,2005,26(2). |
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| 作者姓名： | 凤坤 史迅达 李刚 许峰 刘培东 |
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| 作者单位： | 1. 宁波海纳半导体有限公司,宁波,315800
2. 北京有研半导体材料股份有限公司,北京,100088 |
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| 摘 要： | 用基于改进的RCA清洗液结合兆声清洗法和离心喷射法清洗抛光的硅片,干燥后用激光扫描法测试抛光硅片表面颗粒.结果表明,改进的RCA清洗液结合兆声的清洗方法对于去除硅片表面的微小颗粒具有更高的效率.
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| 关 键 词： | 兆声 离心喷射 清洗 颗粒 硅片 RCA |
Comparison of Spinning Spray and Megasonics Cleaning Method |
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| Feng Kun,Shi Xunda,Li Gang,Xu Feng,Liu Peidong.Comparison of Spinning Spray and Megasonics Cleaning Method[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(2). |
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| Authors: | Feng Kun Shi Xunda Li Gang Xu Feng Liu Peidong |
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