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| 用湿法刻蚀技术制作衍射光学元件 | |
| 引用本文： | 周礼书,敬守勇,杨李茗,杨春林.用湿法刻蚀技术制作衍射光学元件[J].光子学报,2002,31(Z2):169-172. |
| 作者姓名： | 周礼书 敬守勇 杨李茗 杨春林 |
| 摘 要： | 研究了氢氟酸(HF)湿法刻蚀石英玻璃的化学机理，探索了针对衍射光学元件制作的刻蚀工艺，得到相关实验规律和工艺参数。最后对实验误差进行定量分析，得到湿法刻蚀的可控精度。 |
| 关 键 词： | 湿法刻蚀 衍射光学元件 制作工艺 工艺参数 实验误差 化学机理 石英玻璃 氢氟酸 HF |
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