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| 准分子激光曝光系统研究 | |
| 引用本文： | 李毅杰.准分子激光曝光系统研究[J].电子工业专用设备,1996,25(2):10-12. |
| 作者姓名： | 李毅杰 |
| 作者单位： | 电子工业部第４５研究所 |
| 摘 要： | 本文基于准分子激光曝光系统的特点，对准分子激光束的整形，光束能量分布“均化”，曝光剂量控制，光学材料选取等关键问题，提出了解决的方法。并介绍了一种高均匀性ＫｒＦ准分子激先曝光系统的研制结果。 |
| 关 键 词： | 准分子激光 光束整形 投影光刻 剂量 斑纹 均匀性 |
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