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光敏性溶胶-凝胶波导材料
引用本文:姜永睿,胡雄伟,杨沁清,王红杰,杨澜,谢二庆.光敏性溶胶-凝胶波导材料[J].半导体学报,2004,25(6):687-690.
作者姓名:姜永睿  胡雄伟  杨沁清  王红杰  杨澜  谢二庆
作者单位:中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心 北京100083 (姜永睿,胡雄伟,杨沁清,王红杰),北京化学试剂研究所 北京100022 (杨澜),兰州大学物理科学与技术学院 兰州730000(谢二庆)
基金项目:国家自然科学基金 , 国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:采用有机改性硅酸盐制备了光敏性溶胶 凝胶 ,并应用四丙氧基锆作为调节折射率的材料 .为了增加薄膜与硅片的粘附作用 ,先用干氧热氧化法在硅片上生长一层厚度约为 15 0nm的SiO2 ,然后使用提拉法在硅片上提拉成膜 ,薄膜厚度达到 3 6 μm .研究发现紫外曝光时间和坚膜时的后烘温度都会使薄膜的折射率增大 .样品的原子力显微镜照片表明薄膜的表面非常平整 ,在 5 μm× 5 μm的范围内表面起伏只有 0 6 5 7nm .利用波导阵列掩膜版 ,对制备的薄膜在紫外光波段下曝光 ,得到了表面平坦、侧墙光滑、陡直的沟道波导阵列 .

关 键 词:光敏性溶胶凝胶    SiO2薄膜    折射率    波导
文章编号:0253-4177(2004)06-0687-04
修稿时间:2003年5月23日

Characteristics of Photosensitive Sol-Gel Waveguide
Jiang Yongrui ,Hu Xiongwei ,Yang Qinqing ,Wang Hongjie ,Yang Lan and Xie Erqing.Characteristics of Photosensitive Sol-Gel Waveguide[J].Chinese Journal of Semiconductors,2004,25(6):687-690.
Authors:Jiang Yongrui  Hu Xiongwei  Yang Qinqing  Wang Hongjie  Yang Lan and Xie Erqing
Affiliation:Jiang Yongrui 1,Hu Xiongwei 1,Yang Qinqing 1,Wang Hongjie 1,Yang Lan 2 and Xie Erqing 3
Abstract:It is very convenient to fabricate the waveguides films using photosensitive sol-gel,which synthesized with ORMOSIL,due to the similar refractive indexs of this sol-gel and SiO 2.The hybrid sol-gel occurred complex photochemical reactions when exposed to UV light,the unexposed regions of the film are removed through soaking the films in a special solvent.The effects of the UV exposure time and the postbake temperature on the refractive index and the structure of the films are investigated.
Keywords:photosensitive sol-gel  SiO 2 film  refractive index  waveguide
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