| 微磨料浆体射流抛光技术 |
| |
| 引用本文： | 杨佩旋,王成勇,廖艳培,袁慧.微磨料浆体射流抛光技术[J].金刚石与磨料磨具工程,2008(3):19-25. |
| |
| 作者姓名： | 杨佩旋 王成勇 廖艳培 袁慧 |
| |
| 作者单位： | 广东工业大学机电工程学院,广州,510090 |
| |
| 摘 要： | 近年来,在非传统抛光方法中,微磨料浆体射流抛光由于初始成本,无热损伤,不改变材料力学和物理性能,抛光特性不受工件抛光位置影响,被认为是当前对具有复杂表面的硬脆性材料制品进行超光滑表面加工的最有潜力方法之一.本文详细介绍了微磨料浆体射流抛光技术的应用及特点、装置设计原理及实例、材料去除机理,重点分析了喷射压力等工艺参数对抛光效果的影响,并提出了微磨料浆体射流抛光中有待进一步深入开展的研究工作.
|
| 关 键 词： | 射流 抛光 微磨料 浆体 |
| 文章编号： | 1006-852X(2008)03-0019-07 |
| 修稿时间： | 2008年1月16日 |
Micro abrasive suspension jet polishing technology |
| |
| Yang Peixuan,Wang Chengyong,Liao Yanpei,Yuan Hui.Micro abrasive suspension jet polishing technology[J].Diamond & Abrasives Engineering,2008(3):19-25. |
| |
| Authors: | Yang Peixuan Wang Chengyong Liao Yanpei Yuan Hui |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
