| Zr-Si-N扩散阻挡层及其热稳定性的研究 |
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| 引用本文： | 宋忠孝 丁黎 徐可为 陈华. Zr-Si-N扩散阻挡层及其热稳定性的研究[J]. 稀有金属材料与工程, 2005, 34(3): 459-462 |
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| 作者姓名： | 宋忠孝 丁黎 徐可为 陈华 |
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| 作者单位： | 1. 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049
2. 山东省临沂市兰山区金雀山办事处,山东,临沂,276000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重点项目(59931010)和教育部骨干教师计划项目资助 |
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| 摘 要： | 用反应磁控溅射法在不同偏压下沉积了Zr-Si-N扩散阻挡层,结果表明:Zr-Si-N膜的Si含量、电阻率随偏压的升高而降低;Zr-Si-N膜的晶体相随溅射偏压的升高而增加;Zr-Si-N扩散阻挡层的热稳定性高,在850℃时仍能有效阻挡Cu的扩散.
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| 关 键 词： | Zr-Si-N 扩散阻挡层 热稳定性 |
| 文章编号： | 1002-185X(2005)03-0459-04 |
| 修稿时间： | 2003-08-25 |
The Study of Zr-Si-N Diffusion Barrier and Its Thermal Stability |
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| Song Zhongxiao,Ding Li,Xu Kewei,Cheng Hua. The Study of Zr-Si-N Diffusion Barrier and Its Thermal Stability[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2005, 34(3): 459-462 |
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| Authors: | Song Zhongxiao Ding Li Xu Kewei Cheng Hua |
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| Abstract: | Zr-Si-N diffusion barrier films were deposited by reactive magnetron sputtering with different negative bias. The results reveal that the Si content and resistivity of the Zr-Si-N films decrease as negative bias increases. The crystalline phase increases with the increase of negative bias. The thermal stability of Zr-Si-N diffusion barrier was so good that Zr-Si-N diffusion barrier can effectively prevent from the diffusion of Cu. |
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| Keywords: | Zr-Si-N diffusion barrier thermal stability |
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