首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

进一步提高我国分子束外延技术的探讨
作者姓名:孔梅影 梁基本
作者单位:中国科学院半导体研究所
摘    要:进一步提高我国分子束外延技术的探讨孔梅影,梁基本,曾一平(中国科学院半导体研究所北京100083)十多年来,我国的分子束外延(MBE)技术从无到有,并不断改进提高,取得很大的进展。在中国科学院一些单位的共同努力下,我国先后发展了Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ四种型号...

关 键 词:分子束外延 中国 半导体材料
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号