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KH550修饰Al_2O_3及其对PI/Al_2O_3薄膜性能的影响
引用本文:刘立柱,李园园,翁凌,丁军,崔巍魏. KH550修饰Al_2O_3及其对PI/Al_2O_3薄膜性能的影响[J]. 功能材料, 2014, 0(23)
作者姓名:刘立柱  李园园  翁凌  丁军  崔巍魏
作者单位:1. 哈尔滨理工大学 材料科学与工程学院,哈尔滨 150040; 哈尔滨理工大学 工程电介质及其应用教育部重点实验室,哈尔滨 150080
2. 哈尔滨理工大学 材料科学与工程学院,哈尔滨,150040
基金项目:国家自然科学基金资助项目,国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目,黑龙江省自然科学重点基金资助项目,黑龙江省电介质工程重点实验室前沿预研资助项目,黑龙江省教育厅科学研究重点资助项目
摘    要:通过调整KH550的含量对Al2O3粉体表面进行改性,并用红外光谱(FT-IR)和X射线衍射(XRD)对改性后的粉体进行表征,表征结果显示KH550成功的键合到Al2O3粉体表面。然后分别使用Al2O3以及改性Al2O3制备了一系列无机粉体含量为16%(质量分数)的PI复合薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)对复合薄膜的断面微观形貌进行表征,并对复合薄膜的力学性能和击穿场强进行测试。测试结果显示KH550的含量对无机粉体分散情况有较大影响。当KH550含量为2%(质量分数)时,PI/KH550-Al2O3复合薄膜的拉伸强度和断裂伸长率最优,分别为130 MPa,12%,与PI/Al2O3薄膜相比,拉伸强度和断裂伸长率分别提高了22.8%,44.5%,击穿场强与其相近。

关 键 词:PI  KH  AlO  复合薄膜  力学性能

Effect of KH5 5 0-modified Al2 O3 on the properties of PI/Al2 O3 composite films
LIU Li-zhu,LI Yuan-yuan,WENG Ling,DING Jun,CUI Wei-wei. Effect of KH5 5 0-modified Al2 O3 on the properties of PI/Al2 O3 composite films[J]. Journal of Functional Materials, 2014, 0(23)
Authors:LIU Li-zhu  LI Yuan-yuan  WENG Ling  DING Jun  CUI Wei-wei
Abstract:
Keywords:PI  KH5 5 0  Al2 O3  composite films  mechanical properties
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