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片上光学近场的远场辐射调控
引用本文:陈宜臻,潘威康,金相宇,何琼,周磊,孙树林.片上光学近场的远场辐射调控[J].光电工程,2023(8):8-19.
作者姓名:陈宜臻  潘威康  金相宇  何琼  周磊  孙树林
作者单位:1. 复旦大学信息科学与工程学院,上海超精密光学制造工程技术研究中心;2. 复旦大学物理学系,应用表面物理国家重点实验室
基金项目:国家重点研发计划(2020YFA0710100,2022YFA1404700);;国家自然科学基金项目(12221004,62192771,62005197);;上海市科技创新行动计划(20JC1414601)~~;
摘    要:表面波作为一种信息或能量传递载体,在片上光学器件及系统中具有重要应用,然而实现近场表面波到远场传输波的高效自由调控是片上光子学领域中的基础难题。本文从表面波的远场辐射原理出发,介绍了人们利用超表面对表面波辐射场的相位、振幅、偏振态等多种参量的调控能力,以及表面波的定向辐射、远场聚焦、特殊光束激发、全息成像等复杂波前调控效应,最后对表面波远场辐射调控的主要挑战和未来发展做了总结。

关 键 词:片上光场  表面波  远场辐射  超构表面
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