| 激光微细加工中微小曝光区温度测量系统的改进 |
| |
| 引用本文： | 谢兴盛,吴云峰,叶玉堂,杨先明,秦宇伟.激光微细加工中微小曝光区温度测量系统的改进[J].计量与测试技术,2003,30(4):6-8. |
| |
| 作者姓名： | 谢兴盛 吴云峰 叶玉堂 杨先明 秦宇伟 |
| |
| 作者单位： | 1. 电子科技大学光电信息学院
2. 电子科技大学 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，电科院及四川省科技厅资助课题 |
| |
| 摘 要： | 在半导体的激光微细加工技术里，需要对微小曝光区域的温度分布进行不接触测量。文献6]报道的温度测量系统基本满足这一要求。但在实际使用过程中还存在一些需要克服的困难。首先是温度分辨率和温度测量范围不能同时满足使用要求．其次是不能进行温度分布的准确测量和最高温度点的准确定位。本文提出了对原有系统的改进方法，改进后的计算机温度测量系统较好的解决了原系统存在的这些阊题。
|
| 关 键 词： | 激光微细加工 微小曝光区 改进 半导体 计算机温度测量系统 |
| 修稿时间： | 2003年3月7日 |
The Improvement of the Temperature Measurement System for the Small Exposed Region in Laser Assisted Microprocessing |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
