|
|||||
|
|
| 酞菁氧钛薄膜光学常数的测量研究 | |
| 引用本文： | 于书坤,夏道成,高强,李万程,程传辉,何为,杜国同.酞菁氧钛薄膜光学常数的测量研究[J].光电子．激光,2008,19(9). |
| 作者姓名： | 于书坤 夏道成 高强 李万程 程传辉 何为 杜国同 |
| 作者单位： | 1. 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,吉林大学电子科学与工程学院,吉林长春130012 2. 三束材料改性国家重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,辽宁大连116023 3. 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,吉林大学电子科学与工程学院,吉林长春130012;三束材料改性国家重点实验室,大连理工大学物理与光电工程学院,辽宁大连116023 |
| 摘 要： | 使用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪,对在单晶硅片上真空蒸镀的酞菁氧钛(TiOPc)薄膜的光学性质进行了研究.在248～1650 nm(0.75～5 ev)的范围内分别使用柯西模型、逐点拟合模型、洛伦兹模型和高斯模型对测得的椭偏光谱进行拟合分析,获得了TiOPc薄膜的折射率、消光系数和复介电常数.通过比较,我们发现高斯模型拟合的均方差较小,拟合数据和测试数据重合度好,而且拟合得到的光学常数的图线光滑连续,因此认为高斯模型最适用于描述TiOPc薄膜的光学性质.由高斯模型拟合所得的消光系数推出了TiOPc薄膜的吸收谱,结果发现TiOPc薄膜存紫外可见近红外区有一系列的吸收峰,分析了其电子结构及吸收谱成因,并由吸收谱推算了其光学禁带宽度. |
| 关 键 词： | 薄膜 光学常数 椭偏光谱 酞菁氧钛 介电常数 |
Study on optical properties of oxotitanium phthalocyanine |
|
| YU Shu-kun,XIA Dao-cheng,GAO Qiang,LI Wan-cheng,CHENG Chuan-hui,HE Wei,DU Guo-tong.Study on optical properties of oxotitanium phthalocyanine[J].Journal of Optoelectronics·laser,2008,19(9). | |
| Authors: | YU Shu-kun XIA Dao-cheng GAO Qiang LI Wan-cheng CHENG Chuan-hui HE Wei DU Guo-tong |
| Affiliation: | YU Shu-kun1,XIA Dao-cheng2,GAO Qiang1,LI Wan-cheng1,CHENG Chuan-hui2,HE Wei2,DU Guo-tong1,2(1.State Key Laboratory of Integrated Optoelectronics,College of Electronic Science , Engineering,Jilin University,Qianjin Street 2699,Changchun 130012,China,2.State Key Laboratory of Materials Modification by Laser,Ion , Electron Beams,Department of Physics,Dalian University of Technology,Dalian 116024,China) |
| Abstract: | |
| Keywords: | thin film optical constants ellipsometric spectra oxotitanium phthalocyanine dielectric function |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《光电子．激光》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《光电子．激光》下载全文 | |
