| 基板温度对PVD薄膜分维的影响 |
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| 引用本文： | 单英春 徐久军 赫晓东 何飞 李明伟. 基板温度对PVD薄膜分维的影响[J]. 稀有金属材料与工程, 2007, 36(A01): 946-949 |
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| 作者姓名： | 单英春 徐久军 赫晓东 何飞 李明伟 |
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| 作者单位： | [1]大连海事大学机电与材料工程学院,辽宁大连116026 [2]哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,黑龙江哈尔滨150080 [3]成都飞机设计研究所,四川成都610041 |
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| 基金项目： | 国家“863”计划资助项目（2002AA763020）及新世纪优秀人才支持计划（NCET2004）资助 |
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| 摘 要： | 采用动态蒙特卡罗（KMC）方法研究物理气相沉积（PVD）制备薄膜过程中基板温度对薄膜微观结构的影响，并用分维理论研究薄膜表面的复杂程度。该KMC模型中既包括入射原子与表面之间的碰撞，又包括被吸附原子的扩散。模拟中用动量机制确定被吸附原子在表面上的初始构型，用分子稳态计算（MS）方法计算扩散模型中跃迁原子的激活能，用红黑树选择跃迁路径并更新系统跃迁机率。研究结果表明：基板温度大于500K时，薄膜表面分维均小于2．04，表面光滑，而当基板温度小于500K时薄膜分维随基板温度降低而增大，表面随基板温度升高变得越来越粗糙，直到基板温度降到250K时，分维达到最大的稳定值2．32，表面情况非常复杂，具有细致的皱褶和缺陷。分维与基板温度之间的关系说明高基板温度有利于分维小、表面光滑薄膜的制备，而低基板温度使薄膜分维增大、表面结构更加复杂。该研究结果与基板温度对PVD薄膜表面粗糙度影响的研究结果趋势上一致，分维能更细致地评价薄膜表面的复杂程度。
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| 关 键 词： | 分维 基板温度 薄膜 PVD KMC |
| 文章编号： | 1002-185X（2007）S1-0946-04 |
| 修稿时间： | 2007-02-28 |
Effects of Substrate Temperature on Fractal of PVD Thin Film |
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| Shan Yingchun, Xu Jiujun, He Xiaodong, He Fei, Li Mingwei. Effects of Substrate Temperature on Fractal of PVD Thin Film[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2007, 36(A01): 946-949 |
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| Authors: | Shan Yingchun Xu Jiujun He Xiaodong He Fei Li Mingwei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | fractal substrate temperature thin film PVD KMC |
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