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杂志ISSN号
硅片抛光工艺技术研究
作者姓名:
刘凤伟 曹国琛
摘 要:
硅片抛光是IC生产中的重要工序,为提高硅片和IC产品的质量。本文系统地介绍了HE系列新型高效抛光剂的制备方法、性能结构、抛光表面质量以及速率等,并探讨了抛光硅片的工艺技术,该技术经国内外几家大型专业厂生产线的实际应用,其效果良好。
关 键 词:
硅片 抛光工艺 溶胶抛光剂
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