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双δ掺杂In0.65Ga0.35As/In0.52Al0.48As赝型高迁移率晶体管材料子带电子特性研究
引用本文:周文政,林铁,商丽燕,黄志明,朱博,崔利杰,高宏玲,李东临,郭少令,桂永胜,褚君浩.双δ掺杂In0.65Ga0.35As/In0.52Al0.48As赝型高迁移率晶体管材料子带电子特性研究[J].物理学报,2007,56(7).
作者姓名:周文政  林铁  商丽燕  黄志明  朱博  崔利杰  高宏玲  李东临  郭少令  桂永胜  褚君浩
作者单位:1. 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海,200083;广西大学物理科学与工程技术学院,南宁,530004
2. 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海,200083
3. 中国科学院半导体研究所,北京,100083
4. 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海,200083;华东师范大学ECNU-SITP成像信息联合实验室,上海,200062
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划);国家自然科学基金
摘    要:研究了基于InP基的In0.65Ga0.35As/In0.52Al0.48As赝型高迁移率晶体管材料中纵向磁电阻的Shubnikov-deHaas(SdH)振荡效应和霍耳效应,通过对纵向磁电阻SdH振荡的快速傅里叶变换分析,获得了各子带电子的浓度,并因此求得了各子带能级相对于费米能级的位置.联立求解Schrdinger方程和Poisson方程,自洽计算了样品的导带形状、载流子浓度分布以及各子带能级和费米能级位置.理论计算和实验结果很好符合.实验和理论计算均表明,势垒层的掺杂电子几乎全部转移到了量子阱中,转移率在95%以上.

关 键 词:SdH振荡  二维电子气  FFT分析  自洽计算

Observations on subband electron properties in In0.65Ga0.35As/In0.52Al0.48As MM-HEMT with Si δ-doped on the barriers
Zhou Wen-Zheng,Lin Tie,Shang Li-Yan,Huang Zhi-Ming,Zhu Bo,Cui Li-Jie,Gao Hong-Ling,Li Dong-Lin,Guo Shao-Ling,Gui Yong-Sheng,Chu Jan-Hao.Observations on subband electron properties in In0.65Ga0.35As/In0.52Al0.48As MM-HEMT with Si δ-doped on the barriers[J].Acta Physica Sinica,2007,56(7).
Authors:Zhou Wen-Zheng  Lin Tie  Shang Li-Yan  Huang Zhi-Ming  Zhu Bo  Cui Li-Jie  Gao Hong-Ling  Li Dong-Lin  Guo Shao-Ling  Gui Yong-Sheng  Chu Jan-Hao
Abstract:
Keywords:SdH oscillation  two-dimensional electron gas  FFT analysis  self-consistently calculation
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