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| 索尼开发0．18μm工艺的光刻技术 | |
| 摘 要： | 索尼开发０．１８μｍ工艺的光刻技术索尼公司已开发出用于０．１８μｍ工艺的光刻技术。近几年来数字化及多功能设备对大规模、高密度器件及专用集成电路（ＡＳＩＣ）单个芯片的需求大大增加，这就使得光刻技术转向短波长曝光光源，光源也由ｉ线转向准分子激光，同时倾斜... |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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