| 基于表面等离子体的微纳光刻技术 |
| |
| 引用本文： | 杨勇,胡松,姚汉民,严伟,赵立新,周绍林,陈旺富,蒋文波,李展. 基于表面等离子体的微纳光刻技术[J]. 微纳电子技术, 2008, 45(12) |
| |
| 作者姓名： | 杨勇 胡松 姚汉民 严伟 赵立新 周绍林 陈旺富 蒋文波 李展 |
| |
| 作者单位： | 1. 中国科学院光电技术研究所,成都,610209;中国科学院研究生院,北京,100039
2. 中国科学院光电技术研究所,成都,610209 |
| |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) ， 国家自然科学基金 |
| |
| 摘 要： | 首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米光刻作为一种新兴技术有望突破45nm节点从而极大提高光刻的分辨力。介绍了表面等离子体的特性,对表面等离子体(SPs)在光刻中的应用作了回顾和分析,指出在现有的利用表面等离子体进行纳米光刻的实验装置中,或采用单层膜的超透镜(Superlens),或采用多层膜的Super-lens,但都面临着如何克服近场光刻这一难题;结合作者现有课题分析了表面等离子体光刻的发展方向,认为结合多层膜的远场纳米光刻方法是表面等离子体光刻的发展方向。
|
| 关 键 词： | 表面等离子体 纳米光刻 近场光刻 倏逝波 局域增强 |
Micro/Nano-Lithography Technology Based on Surface Plasmons |
| |
| Yang Yong,Hu Song,Yao Hanmin,Yan Wei,Zhao Lixin,Zhou Shaolin,Chen Wangfu,Jiang Wenbo,Li Zhan. Micro/Nano-Lithography Technology Based on Surface Plasmons[J]. Micronanoelectronic Technology, 2008, 45(12) |
| |
| Authors: | Yang Yong Hu Song Yao Hanmin Yan Wei Zhao Lixin Zhou Shaolin Chen Wangfu Jiang Wenbo Li Zhan |
| |
| Affiliation: | Yang Yong1,2,Hu Song1,Yao Hanmin1,Yan Wei1,Zhao Lixin1,Zhou Shaolin1,Chen Wangfu1,Jiang Wenbo1,Li Zhan1(1.Institute of Optics , Electronics,Chinese Academy of Sciences,Chengdu 610209,China,2.Graduate School,Beijing 100039,China) |
| |
| Abstract: | The development and challenge of optical lithography are firstly introduced.With the development of nanotechnology,nano-scale devices will be the fundament of IC,while nanolithography is the basic technology of micro-or nano-fabrication.Nanolithography based on surface plasmons is the alternative of the next generation lithography which can breakthrough 45 nm node and improve the resolution considerably.Then,the particular properties of surface plasmons are introduced and its application for lithography is ... |
| |
| Keywords: | surface plasmons nanolithography near-field lithography evanescent wave localized enhancement |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
