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减压氮保护直拉硅单晶生长
引用本文:阙端麟,李立本,陈修治,林玉瓶,张锦心,周晓,杨建松.减压氮保护直拉硅单晶生长[J].中国科学A辑,1991,34(2):215-220.
作者姓名:阙端麟  李立本  陈修治  林玉瓶  张锦心  周晓  杨建松
作者单位:浙江大学材料系 杭州 310027
摘    要:本文报道了在氮气中生长直拉硅单晶的实验结果。探讨了在减压下氮与硅的化学反应。结果表明减压氮气流能消除氧化硅烟尘,并取得无位错单晶的高产率。用本方法生长的低碳硅单晶具有良好电学性能。对单晶的热处理性能进行了研究。晶片经过三步内吸除热处理后可得理想的洁净区。

关 键 词:直拉硅单晶  晶体生长  减压氮保护
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