| 细团聚球形粉体的等离子物理气相沉积工艺适配性EI北大核心CSCD |
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| 引用本文： | 何箐,邹晗,由晓明,张雨生,赵乾.细团聚球形粉体的等离子物理气相沉积工艺适配性EI北大核心CSCD[J].中国表面工程,2023,36(4):161-173. |
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| 作者姓名： | 何箐 邹晗 由晓明 张雨生 赵乾 |
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| 作者单位： | 中国农业机械化科学研究院集团有限公司 北京 100083 ；北京金轮坤天特种机械有限公司 北京 100083 |
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| 摘 要： | 等离子物理气相沉积(PS-PVD)技术由于可实现涂层组织结构柔性调控及高沉积效率和高隔热、长寿命热障涂层制备而被广泛关注,但其粉体制备技术及工艺适配性研究进展较为缓慢。开展PS-PVD粉体材料工艺适配性研究,通过粉体成分及结构的有效控制,设计并制得一种采用化学共沉淀原料的1~20μm的“双相”结构松散球形团聚8YSZ粉体,粉体具有高开孔率和一定自流动性。为了提高粉体的工艺适配性,系统研究PS-PVD工艺中不同喷涂距离、喷涂功率和偏离等离子射流中心不同位置的粉体沉积行为,发现通过粉体成分/结构的有效控制,在低喷涂功率、长喷涂距离和距离等离子射流中心的不同位置,均可实现良好的工艺适配效果及涂层气相沉积效果。通过粉体材料的优化控制可以降低气化过程中的耗能,提高粉体气相沉积效果和拓宽PS-PVD喷涂沉积适配的工艺窗口,实现在高能、高速等离子体中的高气相比例沉积。在PS-PVD用高工艺适配性粉体及其可控制备技术等方面取得了突破,系统地开展了该工艺用粉体制备及性能调控、粉体工艺适配性规律等的研究。
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| 关 键 词： | 热障涂层 等离子物理气相沉积 粉体 沉积行为 工艺适配 工艺窗口 |
| 收稿时间： | 2022/8/18 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2023/1/30 0:00:00 |
Process Suitability of Plasma Spray-physical Vapor Deposition with Fine Spherical Agglomerated Powders |
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| HE Qing,ZOU Han,YOU Xiaoming,ZHANG Yusheng,ZHAO Qian.Process Suitability of Plasma Spray-physical Vapor Deposition with Fine Spherical Agglomerated Powders[J].China Surface Engineering,2023,36(4):161-173. |
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| Authors: | HE Qing ZOU Han YOU Xiaoming ZHANG Yusheng ZHAO Qian |
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