| 掺铝氧化锌薄膜的结构与刻蚀性能 |
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| 引用本文： | 洪瑞江,徐淑华. 掺铝氧化锌薄膜的结构与刻蚀性能[J]. 华南理工大学学报(自然科学版), 2010, 38(6). DOI: 10.3969/j.issn.1000-565X.2010.06.028 |
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| 作者姓名： | 洪瑞江 徐淑华 |
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| 作者单位： | 1. 中山大学,太阳能系统研究所,广东,广州,510006
2. 华南理工大学,理学院,广东,广州,510640 |
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| 摘 要： | 利用中频反应磁控溅射技术,以Zn/Al(质量比98∶2)合金靶为靶材,制备了综合性能优良的铝掺杂氧化锌(ZnO:Al,AZO)透明导电薄膜.探讨了沉积工艺对薄膜结构、电学及光学性能的影响,分析了AZO薄膜的刻蚀性能以及所制备的绒面结构特性.结果表明:基体温度对薄膜生长有较大的影响;采用适当的沉积温度,薄膜具有较好的晶化率,晶粒呈明显的柱状生长,晶界间结合紧密,薄膜的电阻率为4.600×10-4Ω.cm;镀膜时基体的移动速度影响薄膜的晶体生长方式,但对其沉积效率影响不大;具有择优生长特性、形成柱状晶组织的薄膜经稀盐酸腐蚀后,其表面呈规则的粗糙形貌,此结构有利于充分捕集太阳光,从而提高薄膜太阳电池的效率.
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| 关 键 词： | 氧化锌薄膜 结构 刻蚀性能 太阳电池 |
| 收稿时间： | 2010-01-29 |
| 修稿时间： | 2010-03-15 |
Structural and Etching Behavior of Al-Doped Zinc Oxide Thin Film |
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| Hong Rui-jiang,Xu Shu-hua. Structural and Etching Behavior of Al-Doped Zinc Oxide Thin Film[J]. Journal of South China University of Technology(Natural Science Edition), 2010, 38(6). DOI: 10.3969/j.issn.1000-565X.2010.06.028 |
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| Authors: | Hong Rui-jiang Xu Shu-hua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO thin film structure etching behavior solar cell |
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