铁电多层膜的制备和特性 |
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引用本文: | 许宇庆,陶向明.铁电多层膜的制备和特性[J].真空,1996(6):13-16. |
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作者姓名: | 许宇庆 陶向明 |
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作者单位: | 浙江大学物理系,杭州大学物理系 |
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基金项目: | 国家自然科学基金,浙江省自然科学基金 |
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摘 要: | 本文首次对铁电多层膜的制备和其特性进行研究。实验结果表明,铁电多层膜中各子层厚度和制膜时工艺条件的改变对其相结构和铁电特性有明显的影响。铁电多层膜由钙钛矿相和焦绿石相所组成。当多层膜中第一、第三层的厚度为0.15μm时,改变第二层的厚度,当其为0.15μm时,多层膜的铁电特性为最好并且膜中钙钛矿相的含量增大。当第一、二、三层的厚度相同时,改变其厚度到0.1μm时,此时多层膜的铁电特性为最好并且钙钛矿相的含量增大。沉积第二层Pb(Zr0.48Ti0.52)O3膜时衬底温度较低时有利于其铁电特性提高,但气体压强对其影响不大。
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关 键 词: | 铁电性 多层膜 磁控溅射 |
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