| 氧气流量对射频磁控溅射制备Cu2O薄膜性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 林龙,李斌斌,鲁林峰,江丰,沈鸿烈.氧气流量对射频磁控溅射制备Cu2O薄膜性能的影响[J].人工晶体学报,2010,39(5):1221-1226. |
| |
| 作者姓名： | 林龙 李斌斌 鲁林峰 江丰 沈鸿烈 |
| |
| 作者单位： | 南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京,210016 |
| |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)，南京航空航天大学基本科研业务费专项科研项目 |
| |
| 摘 要： | 通过磁控溅射方法在玻璃衬底上制备Cu2O薄膜,采用X射线衍射(XRD)、分光光度计、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XPS)等研究了氧气流量对Cu2O薄膜性能的影响.结果表明:氧气流量为4.2 sccm时,薄膜为单相的Cu2O,具有较高的结晶质量和可见光透过率,光学带隙为2.29 eV,薄膜的导电类型是p型且空穴浓度为2×1016 cm-3.通过XPS能谱分析Cu 2p3/2和O 1s结合能,确定了薄膜中Cu以+1价存在.
|
| 关 键 词： | 氧化亚铜 磁控溅射 电阻率 光透射率 氧气流量 |
Effect of Oxygen Flow Rate on the Properties of Cuprous Oxide Thin Films Sputtered by RF Magnetron |
| |
| LIN Long,LI Bin-bin,LU Lin-feng,JIANG Feng,SHEN Hong-lie.Effect of Oxygen Flow Rate on the Properties of Cuprous Oxide Thin Films Sputtered by RF Magnetron[J].Journal of Synthetic Crystals,2010,39(5):1221-1226. |
| |
| Authors: | LIN Long LI Bin-bin LU Lin-feng JIANG Feng SHEN Hong-lie |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文 |
|
