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化学镀Fe-N合金薄膜的研究
引用本文:吉云秀,许阳,公维民,高玉周. 化学镀Fe-N合金薄膜的研究[J]. 电镀与精饰, 2005, 27(4): 33-35
作者姓名:吉云秀  许阳  公维民  高玉周
作者单位:大连海事大学,环境科学与工程学院,辽宁,大连,116026;大连海事大学,材料工艺研究所,辽宁,大连,116026
摘    要:鉴于铁-氮合金薄膜具有优良的软磁性能,以铜片为基体,在碱性条件下制得化学镀铁-氮合金薄膜;并确定了最佳工艺条件:硫酸亚铁铵4g/L、氯化亚铁12g/L、酒石酸钾钠12g/L、水合肼60g/L、pH为12、温度85~90℃;通过X-射线衍射及扫描电镜对镀样的形貌、成分进行初步分析,结果表明化学镀铁-氮合金薄膜是可行的。

关 键 词:铁-氮薄膜  化学镀  软磁性能
文章编号:1001-3849(2005)04-0033-03

Study on Electroless Plating of Fe-N Alloy Film
JI Yun-xiu,XU Yang,GONG Wei-min,GAO Yu-zhou. Study on Electroless Plating of Fe-N Alloy Film[J]. Plating & Finishing, 2005, 27(4): 33-35
Authors:JI Yun-xiu  XU Yang  GONG Wei-min  GAO Yu-zhou
Abstract:
Keywords:iron-nitrogen film  electroless plating  soft magnetic property
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