| 扫描电子显微镜在半导体工艺中的应用技术研究 |
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| 引用本文： | 王嵩宇,徐宁,袁凯,苏秀娣,许仲德,李宏,林厚军.扫描电子显微镜在半导体工艺中的应用技术研究[J].微处理机,2004,25(3):10-11. |
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| 作者姓名： | 王嵩宇 徐宁 袁凯 苏秀娣 许仲德 李宏 林厚军 |
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| 作者单位： | 东北微电子研究所,沈阳,110032 |
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| 摘 要： | 对半导体工艺的需要，本文提供了利用扫描电子显微镜进行分析的机理及采用的关键技术手段。
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| 关 键 词： | 扫描电子显微镜 解理 缀饰 |
| 文章编号： | 1002-2279(2004)03-0010-02 |
| 修稿时间： | 2003年7月2日 |
The Applied Technique Study of Scanning Electric Microscope During Semi-conductor Process |
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| WANG Song-yu,XU Ning,YUAN Kai,et al.The Applied Technique Study of Scanning Electric Microscope During Semi-conductor Process[J].Microprocessors,2004,25(3):10-11. |
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| Authors: | WANG Song-yu XU Ning YUAN Kai |
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| Abstract: | Aim at the demand of the semi conductor technics,this text provided the principle make use of the electronic microscope to proceed the analysis and key technique of using. |
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| Keywords: | SEM Cleavage Decoration |
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