| 脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜的研究进展 |
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| 引用本文： | 王海方,李毅,蒋群杰,俞晓静,胡双双,武斌,张虎,黄毅泽,张伟.脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜的研究进展[J].激光与光电子学进展,2009(6). |
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| 作者姓名： | 王海方 李毅 蒋群杰 俞晓静 胡双双 武斌 张虎 黄毅泽 张伟 |
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| 作者单位： | 1. 上海理工大学,光学与电子信息工程学院,上海,200093
2. 上海理工大学,光学与电子信息工程学院,上海,200093;上海理工大学,上海市现代光学系统重点实验窒,上海,200093 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)，教育部科学技术研究重点项目，上海市科学技术委员会科技攻关计划项目，上海市教委科学技术研究重点项目 |
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| 摘 要： | 主要阐述了脉冲激光沉积(PLD)技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍了脉冲激光沉积制备二氧化钒(VO2)薄膜的工艺参数和同内外研究进展,并与几种常规制备方法进行了对比,给出了脉冲激光沉积掺杂对VO2溥膜特性的影响,以及脉冲激光沉积制备VO2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备VO2薄膜存在的问题和发展方向.
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| 关 键 词： | 薄膜 VO2薄膜 脉冲激光沉积 制备 掺杂 |
Research Progress of Vanadium Dioxide Thin Film Fabricated by Pulsed Laser Deposition |
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| Wang Haifang,Li Yi,Jiang Qunjie,Yu Xiaojing,Hu Shuangshuang,Wu Bin,Zhang Hu,Huang Yize,Zhang Wei.Research Progress of Vanadium Dioxide Thin Film Fabricated by Pulsed Laser Deposition[J].Laser & Optoelectronics Progress,2009(6). |
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| Authors: | Wang Haifang Li Yi Jiang Qunjie Yu Xiaojing Hu Shuangshuang Wu Bin Zhang Hu Huang Yize Zhang Wei |
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