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DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
共溅射沉积的TbFeCo薄膜
作者姓名:
王伟杰
余维嘉
姚新华
肖宗耀
作者单位:
中国科学院上海冶金研究所(王伟杰,余维嘉,姚新华),中国科学院上海冶金研究所(肖宗耀)
摘 要:
本文介绍了利用射频共溅射技术制备垂直膜面单轴各向异性TbFeCo磁光薄膜,并研究了该薄膜的磁、磁光和读写性能。测试结果表明,这种TbFeCo薄膜的磁光盘其载噪比和擦写循环分别达到48dB和1×10~6次以上。该磁光盘可适用于数据存储。
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