| C60薄膜的离子注入损伤研究 |
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| 引用本文： | 邹云娟,严 辉,陈光华,金运范,杨 茹.C60薄膜的离子注入损伤研究[J].物理学报,1998,47(11):1923-1927. |
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| 作者姓名： | 邹云娟 严 辉 陈光华 金运范 杨 茹 |
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| 作者单位： | (1)北京工业大学应用物理系,北京 100022; (2)中国科学院近代物理研究所,兰州 730000 |
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| 基金项目： | 北京市自然科学基金（批准号：2962005）和北京市跨世纪人才工程专项基金资助的课题. |
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| 摘 要： | 在200 keV重离子加速器上，用120—360 keV的H,N,Ar和Mo离子注入C60薄膜．对注入后薄膜的拉曼谱进行了分析．结果表明，不同离子注入C60薄膜后，C60的1469 cm-1特征峰随注入剂量的增加均呈指数式下降，同时在1300—1700 cm-1范围出现非晶碳峰，并逐渐增强，最终完全非晶化．而且1469 cm-1拉曼峰的强度及C60薄膜完全非晶化所对应的剂量与注入离子的种类和能量有关．进一步的分析表明，C60分子的损伤主要是由注入离子的核能量转移所造成，与电子能量转移无关．H离子注入C60薄膜后，1469 cm-1处特征拉曼峰向短波方向非对称展宽，这可能是注入的H离子通过电子能量转移使C60分子发生聚合的结果.
关键词：
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| 关 键 词： | 碳60 薄膜 离子注入损伤 富勒烯 |
| 收稿时间： | 4/6/1998 12:00:00 AM |
ION RADIATION DAMAGE OF C60 FILMS |
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| ZOU YUN-JUAN,YAN HUI,CHEN GUANG-HUA,JIN YUN-FAN and YANG RU.ION RADIATION DAMAGE OF C60 FILMS[J].Acta Physica Sinica,1998,47(11):1923-1927. |
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| Authors: | ZOU YUN-JUAN YAN HUI CHEN GUANG-HUA JIN YUN-FAN and YANG RU |
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| Abstract: | The C60 films have been implanted with 120—360 keV H,N, Ar and Mo ions by using a 200 keV heavy ion accelerator. The samples were investigated by Raman spectra. The results showed an exponential decrease of intensity for 1469 cm-1 line depending on the kind of ions and dose. There appeared a structural transformation of C60 to amorphous carbon at certain doses, which is correlated to the nuclear energy transfer. H ions implantation resulted in an asymmetrical broadening of 1469 cm-1 line, which is due to the electronic energy transfer. |
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| Keywords: | |
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